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PVD是英文Physical Vapor Deposition（物理氣相沉積）的縮寫，是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

展覽時間：2023年9月19日-23日； 展覽地點：國家會展中心（上海）((崧澤大道 333 號)

展覽時間：2023年10月24日~27日； 展覽地點：上海新國際博覽中心  上海市浦東新區(qū)龍陽路2345號